日前媒体纷繁传言清华研制成功EUV光刻机，这个其实夸张了现实，不过却也的确是EUV光刻机的严重打破，将绕开ASML等西方独占的EUV光刻技能路途，拔苗助长一条全新的路途。

  据了解清华研制成功的并非是EUV光刻机，而是可用于EUV光刻机的光源，这被称为SSMB（稳态微聚束加速器光源），据了解清华大学担任该项技能研制的唐传祥教授也准确指出“SSMB光源的潜在使用之一是作为未来EUV光刻机的光源”。

  EUV光刻机是研制5纳米甚至更先进工艺的必需设备，现在台积电、Intel、三星量产的5纳米、3纳米工艺都需求EUV光刻机，7纳米工艺当然也可用DUV光刻机可是却导致功能不行7纳米EUV工艺强，并且良率偏低、本钱偏高。

  现在EUV光刻机由ASML独占，而EUV光刻技能则由欧美独占，当年美国联合多家企业研制成功EUV光刻技能，然后提供给ASML，由ASML出产出EUV光刻机，正是因为这个技能根由，因而ASML不得不遵从美国的要求，不对我国出售EUV光刻机。

  现在因为美国的影响，估计较久内，ASML都不会对我国出售EUV光刻机，这与DUV光刻机还能够分级，初级其他DUV光刻机能够对我国出售，促进我国安排各方专家，研制自己的EUV光刻机。

  我国拔苗助长一条新的EUV光刻技能难度较大，这不单单是一两家企业的工作，而是需求我国许多产业链企业一起尽力，现在清华拔苗助长出了一条新的EUV光源技能，这关于我国的EUV光刻机来说已严重的打破，意味着我国研制自己的EUV光刻机已获得打破性开展。

  一台EUV光刻机不只要光源，还有光源操控、工作台、物镜体系等等，只不过光源的研制技能难度最大，究竟EUV光刻机的光源与此前的DUV光刻机彻底不一样，归于一项改造性技能，光源有处理的途径，其他光刻机配件的研制就能够加速，究竟其他部件部分技能与DUV光刻机类似。

  早前就曾传出国产的28纳米光刻机已研制成功，而近期一家我国自主研制的手机品牌推出由国产芯片制作工艺出产的芯片，证明国产的先进光刻机应该已投入出产，比预期提早了半年时刻，这也阐明光刻机的产业链已得到完善，这些技能都有助于EUV光刻机加速研制。

  力所不及国内的光刻机技能可谓喷发式开展，打破的音讯继续不断，凸显出自从3年多前国内分外的注重光刻机研制后，用如此短时刻就获得如此巨大的打破，证明了我国芯片技能人才的确足够多，任何困难都挡不住我国芯片行进的脚步。

  面对着我国芯片技能的开展，ASML的高管对我国光刻机的言辞也是一直在改变，之前说即便给我国图纸也出产不出光刻机，到现在已表明只需给予时刻我国早晚能出产出先进光刻机，而国产先进芯片工艺的量产印证了他们的预期，ASML也由此敏捷转变态度，表明能够对我国出售更先进的2000i光刻机。

  现实阐明我国的自主研制技能一旦打破，欧美就会敏捷下降约束门槛，这更提示我国芯片职业需求加强自主研制，只要自主研制的技能才是牢靠的。