关注芯片技术的朋友们地终端，光刻机是生产制造芯片的必要设备，虽然全球有四家光刻机企业，但中高端光刻机市场却被ASML独占，其研发的DUV光刻机和EUV光刻机几乎占领了市场。

  据悉，DUV光刻机是深紫外光刻机，其能够适用于生产制造7nm以上制程的芯片，而EUV光刻机是极紫外光刻机，用来生产制造7nm以下制程的芯片。

  在这两种光刻机中，EUV光刻机可以说是一机难求，也就是因为没有EUV光刻机，增加了国内芯片企业突破7nm以下芯片技术的难度。

  全球四家光刻机企业中，两家在日本，一家在中国，一家是荷兰的ASML。中国的光刻机研发制造企业是上海微电子。

  数据显示，上海微电子研发生产的光刻机占领了国内八成以上的市场，而其研发生产的光刻机主要分为4个系列。

  其中，600系列是目前能够量产最先进的光刻机，其能够用来生产90nm等制程的芯片。但经过近年来的技术突破，上海微电子的光刻机技术直接从90nm突破了28nm。

  根据上海微电子发布的消息可知，全新一代光刻机即将下线量产，其属于深紫光光刻机，曝光精度可达28nm，可以说技术进步相当快。

  要知道，ASML的DUV光刻机，其曝光精度也是在这个范畴内，其中，英特尔通过双工作台发方式，利用DUV光刻机生产制造了10nm芯片。

  而台积电则利用多次曝光工艺，在只有DUV光刻机的情况下，量产了7nm芯片。

  也就是说，国产新一代新深紫外光刻机不仅能用来生产制造28nm制程的芯片，还能够用来生产制造10nm、7nm等制程的芯片。

  然而就在国产新一代深紫外光刻机即将下线之际，国内院士吴汉明罕见发声，其表示，EUV光刻机集合了全球顶尖科学技术，像美国光源、德国光学系统、英国真空等。

  这样的一台是任何一个国家都不可能完成的，即便是荷兰的ASML，其研发生产制造EUV光刻机，也是集合全球多国核心技术，即便如此，每年也就能够量产几十台。

  面对国内的院士的罕见发声，一部分网友认为，其如此表态，是向正在前进的国产光刻机泼冷水，认为国内厂商即便是推出了DUV光刻机，也不可能突破到EUV光刻机。

  因为ASML是利用全球供应链的技术，并将其整合研发推出了先进的EUV光刻机，国内光刻机厂商也应该整合全球供应链技术，才能加速光刻机技术突破。

  虽然美国修改规则，禁止相关技术出口到国内，但国内光刻机厂商应该整合国内供应链技术，通过分工合作、流水线的方式，加速技术突破，才能更快实现光刻机技术突破。

  毕竟仅通过一家公司的能力，是不可能完成EUV光刻机这样的高精端技术，即便是上海微电子推出了新一代深紫外光刻机，其也会陷入下一代光刻机泥潭中。

  类似这样的观点，尹志尧也曾表达过，其表示，要加大对半导体集成电路的投资力度，广泛吸引人才，并建立合作伙伴关系，而单打独斗，不仅会浪费资源，也阻碍技术进步。

  就像现在的韩国和台湾省，几乎都是集中所有力度在半导体技术上，才有现在的成就，否则，刘德音也不会喊话，重新评估供应链不如优先发展半导体人才。